에너지/열공정 연구실(이하 ETP Lab)은 반도체 이온 주입 공정에서 발생하는 채널링 효과를 방지하기 위해, 컴퓨터비전 기반의 웨이퍼 노치 각도 검출 시스템을 연구 중입니다. 적절한 위치로 이온 주입이 되지 않으면 실리콘 웨이퍼의 폐기가 불가피하게 되는데, 이러한 현상을 방지하기 위한 노치의 각도 검출 시스템 알고리즘을 이용하면 오리엔터에서만 노치 각도를 확인할 수 있던 현재의 공정과 달리, 컴퓨터비전 시스템을 도입하면 실시간 검출 및 비용 절감이 가능합니다. 이 연구는 다양한 환경에서도 웨이퍼 노치 검출을 수행할 수 있는 가능성을 열고, 반도체 제조 공정의 효율성을 높이는 데 기여할 것입니다.
출간된 논문: https://link.springer.com/article/10.1007/s12541-024-01092-7
